Чиркін А. Д. Формування оксидних наношарів на поверхні MoSi2, WSi2 і TiSi2 при анодній поляризації

Досліджені особливості анодного окиснення MoSi2, WSi2 і TiSi2 в 3% розчині NaCl, кінетика росту наноплівки SiO2 на поверхні MoSi2 при анодному окисненні, а також вплив WSi2 на корозійну стійкість керамічного композиту WSi2-TiB2 в морській воді. Вольтамперометричні поляризаційні дослідження в поєднанні з фізичними методами дослідження поверхні (ОЕС, РФЕС та АСМ) показали, що анодне окиснення MoSi2, WSi2 і TiSi2 є складним багатостадійним процесом, внаслідок якого на поверхні дисиліцидів утворюються тонкі оксидні плівки (5-15 нм). Охарактеризовано структуру отриманих оксидних наноплівок: нанокристаліти відповідних оксидів металів занурені в склоподібну матрицю SiO2. Методом стаціонарної хроноамперометрії досліджено кінетику росту наноплівки SiO2 на поверхні MoSi2 при анодному окисненні. Кінетика росту плівки є параболічною, а параболічна константа лінійно залежить від величини потенціалу аноду. Отримані кінетичні дані описуються теорією Мотта-Кабрера. Проведено дослідження впливу WSi2 на корозійні властивості керамічного композиту WSi2-TiB2 в 3% розчині NaCl. Показано, що малі кількості WSi2 в твердих розчинах WSi2 в TiB2 сповільнюють процес анодного окиснення композиту, порівняно з чистим TiB2, але в цілому композит поводить себе подібно до основного компоненту, в той час як компоненти двофазних керамік реагують з середовишем незалежно один від одного.