Гарпуль О. З. Структурне і магнітне розупорядкування приповерхневих шарів імплантованих іонами кремнію плівок залізо-ітрієвого ґранату.

Робота присвячена вивченню змін кристалічної та магнітної структури і фізико-хімічних властивостей приповерхневого шару плівок Y3Fe5O12 ЗІҐ внаслідок імплантації іонами Si+ з різними енергіями та дозами. Встановлено фізичні закономірності трансформації кристалічної ґратки та досліджено механізми процесу дефектоутворення і зміни електронної структури залежно від умов імплантації. Показано, що при збільшенні енергії іонів Si+ від 100 до 150 кеВ максимум дефектоутворення, яке відбувається в основному за рахунок ядерних енергетичних втрат, та глибина залягання радіаційних дефектів лінійно зростають, а концентрація дефектів зменшується. Імплантація плівок ЗІҐ дозою 5·1013 Si+/см2 у вибраному діапазоні енергій зумовлює утворення монотонно спадних профілів деформації, які в основних рисах повторюють вигляд теоретично розрахованих розподілів пружно-індукованих радіаційних дефектів. Виявлено подібність залежностей відносного вмісту дублетної компоненти месбауерівського спектру від енергії іона-імплантанта для приповерхневого шару (65 нм) та інтегральної величини профілю деформації, отриманого із результатів рентгенівської дифрактометрії, а також їх кореляцію із змінами величини інтегрального розупорядкування структури приповерхневого шару.