Биліна І. С. Процеси росту, морфологія та термоелектричні властивості тонких плівок на основі плюмбум телуриду.

У роботі, з урахуванням комплексних експериментальних досліджень визначено головні структурні характеристики поверхонь тонких плівок на основі плюмбум телуриду, які були отримані за допомогою методів відкритого випарування у вакуумі та «гарячої стінки». Встановлено вплив технологічних факторів на комплекс структурних і термоелектричних властивостей. Продемонстровано, що для плівок на основі плюмбум телуриду тип підкладки впливає на механізм їхнього зародження, а також характерна одночасна реалізація двох процесів росту – дифузійного та вагнерівського. При чому на початкових етапах осадження дифузійний процес росту є домінуючим, і він відповідає за латеральний ріст нанокластерів на поверхні. Це положення підтверджується відповідною зміною фактора форми нанокластерів. Визначено, що підкладка із ситалу не задає певної орієнтації нанокристалітам, на відміну від підкладки із слюди, а на поверхні зразків виникають об’єкти, утворені в основному площинами куба і ромбічного додекаедра та їх поєднаннями. Виявлено, що найбільші значення термоелектричної потужності спостерігаються на початкових етапах осадження, коли розподіл за розмірами нанооб’єктів на поверхні є ще достатньо вузьким, і в ньому не проявляється бімодальний характер, спричинений оствальдівським дозріванням. З’ясовано оптимальні технологічні умови, що дозволяють отримати найбільші показники термоелектричної потужності.