Бізюков І. О. Комбіновані ефекти, що впливають на швидкість ерозії поверхні при опроміненні іонними пучками середніх енергій

В роботі розглянуто розпилення поверхні в умовах, характерних для пристіночної плазми в установках з магнітним утриманням, а також вакуумно-плазмових технологічних установках. Досліджено процеси на поверхні вольфраму при опроміненні іонами D та C як за кімнатної, так і за підвищених температур до 1600 К. Особливу увагу приділено утворенню та подальшій динаміці змішаної поверхні, яка безпосередньо контактує із потоком частинок. Показано, що змішана поверхня безпосередньо впливає на швидкість розпилення чи осадження покриття. Розглянуто вплив температурних ефектів на динаміку змішаної поверхні за рахунок ре-емісії дейтерію, радіаційно-підсиленої сублімації атомів вуглецю, а також хімічного розпилення шляхом утворення молекул метану. Досліджено взаємодію газових та твердотільних іонів із двовимірною періодичною мікроструктурованою поверхнею. На базі порівняння експериментальних даних та результатів моделювання було досліджено вплив розміру шорсткості на параметри взаємодії іонів з поверхнею. В межах роботи також досліджено взаємодію іонних пучків С, а також іонів D та C із шорсткою поверхнею вольфраму. Окрему увагу приділено ерозії вольфраму під дією інтенсивного іонного пучка та послідовному впливу стаціонарного опромінення та імпульсного навантаження.