Онопрієнко О. О. Механізми формування структури та властивостей тонких плівок на основі аморфного вуглецю, які одержують магнетронним методом.

Осадження при температурі підкладки в інтервалі 20-400 оС приводить до формування аморфних плівок. Мікроструктуру таких плівок формують кластери малого розміру, які складаються із неупорядковано розташованих та викривлених кілець типу ароматичних Із підвищенням температури осадження в цьому інтервалі в плівках формується все більше правильних кілець, які розташовуються в кластерах із більшим ступенем упорядкування. При підвищенні температури конденсації вище 500 оС на підкладці одразу осаджуються плівки графіту. Відпал в інтервалі 50-650оС плівок, осаджених при низькій температурі, не змінює структуру плівок, а вище 650оС в структурі плівок утворюються графітоподібні фрагменти. Твердість та пружній модуль а-С плівок знижуються із підвищенням температури конденсації, але не змінюються із температурою відпалу в інтервалі 50-650оС. Легування бором і кремнієм не змінює механізм формування структури плівок, але призводить до уповільнення процесу перетворення кластерів в графітоподібні. При осадженні на підкладки при низькій температурі плівок, що містять метали (Cu, Ag), атоми металу не порушують аморфну структуру плівок. Відпал в вакуумі таких плівок або осадження при високій температурі приводить до виділенні атомів металу в частинки як на поверхні плівок, та і в їх об'ємі. В ансамблях частинок на поверхні плівок розвивається процес коалесценції по механізму поверхневої гетеродифузії (для Cu) або змішаному механізму поверхневої гетеродифузії та злиття малих частинок внаслідок їх переміщення як цілого по поверхні плівок та зіткнення (дляAg).