Зінченко А. Є. Кінетика утворення та загартування NOX у високочастотній індукційній плазмі

English version

Дисертація на здобуття ступеня доктора філософії

Державний реєстраційний номер

0823U100043

Облікова картка дисертації

0823U100043.pdf

Здобувач

Спеціальність

  • 105 - Прикладна фізика та наноматеріали

16-01-2023

Спеціалізована вчена рада

ДФ 26.001.348

Київський національний університет імені Тараса Шевченка

Анотація

Об’єкт дослідження – хімічно чиста, повітряна плазма ВЧІ розряду потужністю більш ніж 50 кВт. Предметом дослідження є фізико-хімічні процеси генерації оксидів азоту як в плазму ВЧІ розряду, так і в гартувальній зоні системи. У даній роботі вперше використане числове симулювання для дослідження кінетики утворення NO у плазмі ВЧІ плазмотрону, та в гартувальній зоні системи. Загартування досліджувалося за різних швидкостей спаду температури на ділянці зміни температури плазми від 3900 К, яка незначно вища за оптимальну (~ 3500 K) для генерації NO, до 2000 К, нижче якої процес дисоціації NO практично припиняється. Розрахунки кінетики утворення NOX з використанням відомих кодів Bolsig+ та ZDPlascin проводились з врахуванням отриманих експериментальних даних.

Читати повністю

Файли

Dysertatsiia_Zinchenko.pdf

autoreferat-Анотація_Зінченко.doc

Схожі дисертації

0824U001079

Шевченко Станіслав Тарасович

Структурно–морфологічні характеристики та електрофізичні властивості пористих конденсатів Zn, Ni, Cu і їх оксидів в поєднанні з C і Si

0824U000997

Іжик Олег Борисович

Розроблення методів синтезу нанорозмірних полімерних та полімер-неорганічних щіток зі спеціальними електрофізичними та оптичними властивостями

0824U000630

Плахтій Вадим Анатолійович

Надширокосмугові електромагнітні поля в задачах розпізнавання підповерхневих об’єктів штучними нейронними мережами

0824U000539

Ло Іян ...

Проектування та оптимізація антенної решітки за допомогою спеціальних матриць

0824U000538

Горох Денис Валерійович

Закономірності формування, особливості структури та властивості іонно-плазмових нітридних покриттів TiSiN/NbN та TiSiN/CrN