Красько М. М. Вплив ізовалентної домішки олова на термічне та радіаційне дефектоутворення в кремнії

В роботі представлено результати експериментального дослідження впливу ізовалентної домішки олова на електрофізичні властивості кремнію при термо- та радіаційних обробках. Встановлено вплив легування кремнію ізовалентною домішкою олова на процеси утворення і відпалу радіаційних і термічних дефектів. Показано, що в кремнії з оловом зменшується енергія активації утворення та відпалу термодонорів, які утворюються в процесі термообробки при 450 0С. Запропоновано модель вливу олова на перебіг процесів утворення термодонорів, яка припускає існування метастабільного дефекту олово-кисень. Побудовано теорію кінетики утворення термодонорів як в зразках з оловом, так і без нього. Показано також, що при протонному (61 МеВ) опромінюванні вводяться два акцепторних електронних рівні, які пов'язані з оловом і належать одному радіаційному дефекту, до складу якого входить вакансія. Виявлено, що радіаційні дефекти, які відповідають за зміну часу життя носіїв струму при гама-опроміненні, в n-Si<Sn> є термостабільніші ніж в n-Si без Sn.