Нагорний Д. А. Визначення плазмових параметрів високочастотного джерела іонів методами зондової та надвисокочастотної діагностики

В результаті комплексного дослідження плазмових параметрів ВЧ-розряду при відсутності зовнішнього магнітного поля визначені величини електронної температури, абсолютні значення та просторові розподіли електронної щільності плазми при робочих режимах джерела іонів. Підтверджено існування порожнистого кільцеподібного рельєфу щільності плазми під ВЧ-індуктором та отримано радіальну функцію розподілу такого плазмового утворення. Показано, що за межами ВЧ-індуктора плазма має радіальний розподіл щільності з максимумом на осі камери та сплощеним у центрі радіальним профілем. Аксіальний профіль щільності суттєво неоднорідний. При віддаленні від індуктора щільність плазми зменшується за експонентним законом. Дослідження щільності аргонової й гелієвої плазми ВЧ-джерела з накладеним зовнішнім магнітним полем показало існування ефекту резонансного зростання щільності при певних значеннях магнітного поля. Це зростання пов'язане із збудженням власних мод просторово обмеженої магнітоактивної плазми, складовими яких є геліконні хвилі та хвилі Трайвелпіса-Гоулда.