Кравченко О. Є. Структура і електричні властивості плівок міді, золота, нікелю і паладію нанометрової товщини на аморфних підкладках.

На захист виносяться результати досліджень, опублікованих в 13 наукових працях, присвячених дослідженню структури та явищ перенесення заряду в ультратонких електрично суцільних плівках металів Cu, Au, Ni та Pd, сформованих на поверхні сурфактантних підшарів германію субатомної товщини. Експеримент проведено в умовах надвисокого вакууму при тиску залишкових газів, нижчому за 10-7 Па. Для з'ясування меж застосовності сучасних теоретичних моделей розмірних кінетичних явищ у плівках металів з кубічною гранецентрованою кристалічною ґраткою проведено порівняння отриманих експериментальних даних з результатами дослідження аналогічних властивостей плівок, нанесених на діелектричні аморфні підкладки. Досліджено вплив сурфактантних підшарів Ge на структуру та кінетичні коефіцієнти у тонких плівках Cu, Au, Ni та Pd. Підшар сурфактанта призводить до зменшення товщини плівки металу, що відповідає порогу протікання струму в плівці та зменшенню середніх лінійних розмірів кристалітів у порівнянні з аналогічними плівками, осадженими на поверхню чистої підкладки. Показано, що використання сурфактантного підшару германію дає змогу формувати на поверхні підкладки електрично суцільні шари товщиною 3-4 нм для плівок нікелю і паладію та 5-6 нм для плівок міді і золота.