Толмачова Г. М. Структура та механічні властивості іонно-плазмових покриттів на основі TiN з добавками Zr, Si, Al

Дисертація присвячена виявленню закономірностей формування структури в вакуумно-дугових та магнетронних покриттях систем Ti-N, Zr-N, Ti-Zr-N, Ti-Zr-Si-N, Ti-Zr-Al-N та Ti-Al-Si-N, а також встановленню зв'язків між параметрами синтезу, складом, структурою, механічними властивостями покриттів та стабільністю їх характеристик до дії високої температури та іонного опромінення. Визначено інтервали концентрації компонентів та параметри осадження при яких в покриттях формується один з трьох структурних типів: нанокристалічний з однофазною структурою на основі кубічного нітриду (структурний тип NaCl); нанокомпозитний, що складається з нанокристалів кубічного нітриду в оточені аморфної фази; аморфний. За допомогою розробленої методики наноіндентування тонких твердих покриттів з використанням приставки CSM показано, що механічні властивості одержаних іонно-плазмових покриттів визначаються їх структурним типом. Найбільшу твердість мають нанокомпозитні покриття з малим вмістом аморфної фази, а найменшу - покриття з аморфною структурою. Методом вакуумно-дугового осадження одержані тверді (35-45ГПа) покриття (Ti, Al)1?xSixN різного структурного типу з високою термічною стабільністю.