Сабадаш О. М. Технологія реактивно-флюсового паяння тонкостінних конструкцій з алюмінієвих сплавів Аl, Аl-Мn

English version

Дисертація на здобуття ступеня кандидата наук

Державний реєстраційний номер

0421U100566

Здобувач

Спеціальність

  • 05.03.06 - 3варювання та споріднені процеси і технології

17-03-2021

Спеціалізована вчена рада

Д 26.182.01

Інститут електрозварювання ім. Є. О. Патона Національної академії наук України

Анотація

Дисертація присвячена створенню фторидних реактивних флюсів, розробці технології пічного паяння алюмінієвих тонкостінних (від 0,1 мм і більше) багатоелементних конструкцій зі складними замкнутими профілями в атмосфері аргону високої чистоти. В роботі досліджено процеси високотемпературного реактивно-флюсового паяння тонкостінних алюмінієвих конструкцій з використанням реактивних флюсів сольової системи K, Al, Si/F, які сприяють повному проходженню алюмотермічного відновлення кремнію з флюсу KF-AlF3-(K2SiF6+AlF3) і, відповідно, підвищують масову долю новоутвореного алюмінієво-кремнієвого припою в вузькому зазорі, що забезпечує формування нероз’ємних з’єднань з високою міцністю та значною величиною пропаю. Визначено структурні особливості формування паяних з'єднань з припоєм та без присаджування припою. При паянні без присаджування припою (тільки з флюсом) формується структура, яка характерна при проникненні рідкої фази легкоплавкого сплаву Al-Si по границям зерен основного металу. Визначено, що різниця потенціалів між алюмінієвою підкладкою та флюсом KF-AlF3-(K2SiF6+AlF3) в системі Al–припій (Al-12Si)–флюс не перевищує 0,05В, що характеризується найменшою електрохімічною гетерогенністю. Результати комплексних механічних випробувань в умовах значних навантажень (зокрема, вібрація в діапазоні частот від 20 до 2000 Гц, удари з прискоренням до 35 g) показали високу міцність і цілісність паяної тонкостінної конструкції. На базі результатів досліджень створено негігроскопічні фторидні флюси, розроблено технологічний процес пічного паяння тонкостінних алюмінієвих конструкцій хвильоводу в контрольованому газовому середовищі.

Файли

Схожі дисертації