Хоменкова Л. Ю. Структурні перетворення та нерівноважні електронні процеси в нанокомпозитах на основі широкозонних оксидів

English version

Дисертація на здобуття ступеня доктора наук

Державний реєстраційний номер

0521U101689

Здобувач

Спеціальність

  • 01.04.10 - Фізика напівпровідників і діелектриків

12-05-2021

Спеціалізована вчена рада

Д 26.199.02

Інститут фізики напівпровідників імені В. Є. Лашкарьова Національної академії наук України

Анотація

Дисертацію присвячено встановленню особливостей фізичних процесів, які зумовлюють термостимульовані структурні перетворення в нанокомпозитах на основі оксидів кремнію, алюмінію, гафнію та цирконію, легованих одним або декількома типами домішок (кремнієм, германієм, рідкоземельними іонами) та з’ясуванню впливу цих процесів на оптичні, електричні та люмінесцентні характеристики нанокомпозитів та структур на їх основі. На основі систематичних досліджень продемонстровано, що метод магнетронного напилення дозволяє виготовляти тонкі композитні шари з заданими характеристиками, а також багатошарові структури на їх основі. Встановлено, що основним механізмом утворення зародків кремнію в оксидних шарах, легованих кремнієм, є спінодальний розпад та висхідна дифузія кисню. З’ясовано механізм люмінесценції в таких матеріалах та встановлено ключову роль кремнієвих кристалітів в збудженні люмінесценції рідкоземельних іонів. Виявлено, що згасання ФЛ рідкоземельних іонів в шарах (Si,Er)-SiO2 та (Si,Nd)-SiO2, відпалених за високих температур, обумовлено процесами сегрегації рідкоземельних іонів та формуванням відповідних силікатів. Встановлено чинники, що дозволяються стабілізувати аморфну структуру оксидів HfO2 та ZrO2 , а також показано, що при термічних відпалах шарів Si-HfO2, який призводить до формування Si кристалітів, вони залишають вкритими оболонкою SiOx, яка відокремлює їх від матриці HfO2. Показано можливість утворення Ge кристалітів в HfO2 та ZrO2 за рахунок спінодального розпаду, який відбувається за нижчих температур, ніж розпад Si-HfO2, що дозволяє створювати Ge кристаліти, вбудовані в аморфну матрицю HfO2 або ZrO2. Продемонстровано ефекти пам’яті в таких матеріалах.Запропоновано методику неруйнівного експресного контролю оптичних та структурних властивостей цих матеріалів шляхом поєднання методів спектральної еліпсометрії та інфрачервоної спектроскопії.

Файли

Схожі дисертації

0523U100013

Луньов Сергій Валентинович

Вплив дефектної структури на електричні та тензоелектричні властивості монокристалів n-Ge та n-Si та плівкових наноструктур на їх основі

0522U100117

Птащенко Федір Олександрович

Вплив віддаленої взаємодії між домішковими атомами та поверхневими дефектами на процес формування, провідність та сенсорну чутливість до молекул NO2 і NH3 поруватого кремнію та інших кремнієвих структур.

0421U104048

Микитюк Тарас Іванович

Електричні, оптичні та фотоелектричні процеси в тонкоплівкових гетероструктурах CdS/CdMgTe

0521U102010

Борковська Людмила Володимирівна

Електронні та іонні процеси в світловипромінюючих напівпровідникових матеріалах на основі сполук А2В6 і А3В5

0521U101814

Коротєєв Вадим Вячеславович

Ефекти взаємодії терагерцового випромінювання з сильно нерівноважним електронним газом в об'ємних та низькорозмірних напівпровідникових структурах