Романюк Б. Н. Процессы ионно-стимулированного массопереноса и гетерирования в полупроводниковых планарных структурах

Объект исследования: Полупроводниковые кристаллы кремния и слоистые структуры диэлектрик-полупроводник. Цель исследования: Разработка научных основ ионно-стимулированного формирования слоистых структур и изучение процессов переноса и взаимодействия точечных дефектов с атомами примесей в кремнии. Методы исследования и аппаратура: Просвечивающая и растровая электронная микроскопия, рентгеновская спектроскопия, комбинационное рассеивание и электроотражение света, резерфордовское рассеивание альфа-частиц; электронные микроскопы, установки для имплантации, оптические приборы, Оже-спектрометр. Теоретические результаты и новизна: Установление механизмов ионно-стимулированного упорядочивания; кристаллические решетки; изучение механизмоа стимулированного гетерирования; выявление эффектов лазерно-стимулированной диффузии кислорода и каталитической роли угля. Практические результаты и новизна: Разработана и внедрена в производство технология гетерирования при эпитаксионном росте пленок. Предложены методы создания скрытых диэлектрических слоев и p-n переходов при низких температурах. Получено 10 авторских свидетельств на изобретение. Предмет и степень внедрения: Технология гетерирования примесей в эпитаксиальных пленках внедрена на ВО "Гама" г.Запорожье. Эффективность внедрения: Экономический эффект от внедрения результатов 3 млн.крб. Сфера (область) использования: Микроэлектроника, технология полупроводниковых материалов.