Максимова Т. І. Модифікація структурних характеристик поверхні (001) кремнію в мікроелектронній технології

English version

Дисертація на здобуття ступеня кандидата наук

Державний реєстраційний номер

0400U002934

Здобувач

Спеціальність

  • 01.04.01 - Фізика приладів, елементів і систем

26-10-2000

Спеціалізована вчена рада

Д 41.052.06

Анотація

Методом молекулярної динаміки досліджено вплив температури формування поверхні і низькоенергетичної радіаційної дії на структурні характеристики поверхні (001) Si. Одержано нові дані щодо впливу температури формування поверхні на особливості релаксації поверхневих шарів. При високих температурах релаксації виникає квазірозупорядкована поверхнева фаза, що характеризується дефектними ділянками і обірваними зв'язками, які зумовлюють множинні поверхневі реакції, а також особливості формування границі кремній-діелектрик. Показана доцільність використання допорогової радіаційної обробки для стабілізації і відновлення поверхні (001) Si, одержання однорідних по структурі приповерхневих шарів. Виявлені оптимальні умови радіаційного опромінення

Схожі дисертації