Василішин Р. В. Обгрунтування технологічних режимів і параметрів пристрою для лазерного передпосівного опромінення насіння овочевих культур

Об'єкт дослідження - процес передпосівного імпульсного лазерного опромінення насіння овочевих культур; мета дослідження - підвищення посівних якостей насіння овочевих культур передпосівним імпульсним лазерним опроміненням шляхом обґрунтування найбільш ефективних технологічних режимів та розробки відповідних технічних засобів; методи дослідження - планування експерименту, обробки статистичних даних, методологічні принципи системного аналізу і синтезу, операційного обчислення і рішення диференціальних рівнянь; практичні результати - обґрунтовані параметри технологічних режимів передпосівного імпульсного лазерного опромінення насіння овочевих культур, розроблені технічні засоби з установленням параметрів технологічних режимів передпосівного опромінення насіння овочевих культур у залежності від виду і сорту культур і вихідних посівних якостей насіння; наукова новизна - одержані залежності схожості і енергії проростання насіння овочевих культур від параметрів технологічних режимів передпосівного імпульсноголазерного опромінення і внутрішніх факторів, що дозволило запропонувати нові ефективні параметри технологічних режимів передпосівного імпульсного лазерного опромінення насіння овочевих культур, запропоновані методи для встановлення параметрів технологічних режимів передпосівного імпульсного лазерного опромінення насіння овочевих культур у залежності від вихідних посівних якостей насіння, сорту і виду культур, що дозволило розробити відповідні технічні засоби для передпосівного імпульсного лазерного опромінення насіння овочевих культур; галузь - овочівництво.