Бабенко Є. В. Вакуумне ультрафіолетове випромінювання з плазми сильнострумових імпульсних діодів

Показана можливість генерації серії потужних (1 МВт) пікових (100–200 нс) імпульсів спрямованого вакуумного ультрафіолетового випромінювання з плазми сильнострумового імпульсного обмеженого діода в парах олова. Встановлено залежності енергії та коефіцієнта спрямованості пікових імпульсів випромінювання від параметрів розряду, діаметру потенціального електрода і зовнішнього сталого магнітного поля. Виявлено пучковий механізм додаткового розігріву плазми, що забезпечує генерацію пікових імпульсів випромінювання. Пучок, що розігріває плазму, формувався в подвійному електричному шарі заряджених частинок. Показана кореляція форми плазмових згустків зі спрямованістю випромінювання. Розвинута фізична модель, що пояснює механізми формування спрямованого випромінювання з плазми певної конфігурації.