Шепелявый П. Е. Разработка и применение высокоэффективных неорганических резистов на основе халькогенидных стекол

Объект исследования: Тонкослойкие структуры халькогенидное стекло-Аg, тонкие слои халькогенидных стекол /As-S, As-S-Se,Ge-S/, металлодиэлектрическое светопоглащающее покрытие на основе Si и Cr. Цель исследования: Разработка новых неорганических резистов на основе халькогенидных стекол, исследование их физико-химических свойств, а также разработка технологических процессов с применением этих резистов. Методы исследования и аппаратура: Оптические /спектрофотометрия, интерферометрия, эллипсометрия/, электрические /резистометрия, кварцевый резонатор/, профилометрия, КСВУ-23, МИИ-1, ЛЭФ-3М, Talystep, JEOL и др. Теоретические результаты и новизна: Разработаны физико-технологические основы литографических процессов различного назначения с применением неорганических резистов на основе халькогенидных стекол. Практические результаты и новизна: Разработаны новые неорганические резисты с применением которых созданы технологические процессы изготовления различных полезных изделий. Предмет и степень внедрения: Технология изготовления высокоточных металлизированных изображений на Феодосийском приборостроительном заводе НПО"Оптика". Эффективность внедрения: 226,2 тыс.руб. в ценах 1990 г. Сфера (область) использования: Оптотехника, электронная техника, оптическая записть информации, голография.